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薄膜生長速率測試儀

描述：薄膜生長速率測試儀，采用無損的激光技術(shù)實(shí)時原位檢測薄膜沉積速率、薄膜厚度以及光學(xué)常量（n&k），可廣泛的應(yīng)用于金屬有機(jī)化學(xué)氣象沉積MOCVD、分子束外延MBE、濺射系統(tǒng)Sputtering和蒸發(fā)系統(tǒng)等薄膜沉積過程的實(shí)時原位監(jiān)控。

更新時間：2024-07-04
產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：代理商
詳情介紹
品牌其他品牌產(chǎn)地類別進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池

薄膜生長速率測試儀，采用無損的激光技術(shù)實(shí)時原位檢測薄膜沉積速率、薄膜厚度以及光學(xué)常量（n&k），可廣泛的應(yīng)用于金屬有機(jī)化學(xué)氣象沉積MOCVD、分子束外延MBE、濺射系統(tǒng)Sputtering和蒸發(fā)系統(tǒng)等薄膜沉積過程的實(shí)時原位監(jiān)控。

薄膜生長速率測試儀

主要特點(diǎn)：

*實(shí)時薄膜沉積速率、薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)（n&k）分析，同時標(biāo)準(zhǔn)偏差統(tǒng)計分析；

*自動程序化校準(zhǔn)；

*實(shí)時反饋系統(tǒng)；

*程序控制，可實(shí)時多層薄膜沉積監(jiān)控和控制；

*多Wafer監(jiān)控功能；

*Wafer基底旋轉(zhuǎn)監(jiān)控和控制功能；

*所有參量原位實(shí)時檢測；

*操作裝配簡單便捷；



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