詳細說明：

桌面型原子層沉積系統(tǒng)由哈佛大學(xué)納米科學(xué)中心薄膜沉積工藝研究科學(xué)家Dr. Philippe de Rouffignac設(shè)計，基于多年納米薄膜制備的經(jīng)驗以及對科研工作者切實研究需要的了解，推出了此桌面型原子層沉積系統(tǒng)。

主要特點：
1.腔室專為R&D設(shè)計和優(yōu)化，樣品尺寸達直徑4’’,可升級至6''；
2.反應(yīng)腔溫度可控范圍：RT-350℃；
3.前驅(qū)體源溫度可控范圍：RT-150℃；
4.腔室處理壓力可控范圍：0.1-1.5 torr；
5.源擴展多達5個；
6.快速循環(huán)處理功能；
7.氣路優(yōu)化設(shè)計、腔體小型化設(shè)計；
8.一分鐘多達6-10；
9.成熟的薄膜Recipes內(nèi)置程序；
10.觸屏PLC控制；
11.可配套手套箱使用；
12.可配備臭氧發(fā)生器；

13.可定制樣品夾具；

14.相比于市場上同類產(chǎn)品體積相對偏小，可以放置在凈化間；

15.可實現(xiàn)前驅(qū)體劑量的控制。

可處理材料：